High resolution electron beam lithography : an improved understanding of a versatile lithography technique

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DC Element	Wert	Sprache
dc.contributor.advisor	Weis, Jürgen (Prof. Dr.)	-
dc.contributor.author	Rommel, Marcus	-
dc.date.accessioned	2018-07-12T12:48:20Z	-
dc.date.available	2018-07-12T12:48:20Z	-
dc.date.issued	2018	de
dc.identifier.other	507621204	-
dc.identifier.uri	http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-99402	de
dc.identifier.uri	http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9940	-
dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923	-
dc.description.abstract	Dissertation zum Thema Hochauflösende Elektronen Strahl Lithographie mit Fokus auf den Einfluss schneller Sekundärelektronen auf den Proximity Effekt, sowie die Entwicklung von Prozessen zur Herstellung großer Flächen dicht gepackter Strukturen mit sub-10 nm Auflösung.	de
dc.language.iso	en	de
dc.rights	info:eu-repo/semantics/openAccess	de
dc.subject.ddc	530	de
dc.title	High resolution electron beam lithography : an improved understanding of a versatile lithography technique	en
dc.type	doctoralThesis	de
ubs.dateAccepted	2018-03-22	-
ubs.fakultaet	Externe wissenschaftliche Einrichtungen	de
ubs.institut	Max-Planck-Institut für Festkörperforschung	de
ubs.publikation.seiten	x, 156, 1	de
ubs.publikation.typ	Dissertation	de
ubs.thesis.grantor	Mathematik und Physik	de
Enthalten in den Sammlungen:	08 Fakultät Mathematik und Physik

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