Contouring using two-wavelength electronic speckle pattern interferometry employing dual-beam illuminations

Abstract

Es wird eine neue Konturing-Methode mit einer elektronischen Zweiwellenlängen-Speckle-Interferometrie (TWESPI) vorgeschlagen, bei der zwei Beleuchtungsstrahlen verwendet werden. Die optisch rauhe Oberfläche wird bei einer synthetischen längeren equivalenten Wellenlänge vermessen, so daß durch die Änderung der Wellenlängen eine variable Meßempfindlichkeit erhalten werden kann. Dadurch erweitert diese Technik den Meßbereich der Einwellen-Speckle-Interferometrie und erlaubt die Messung von Konturen steiler Profile als bisher mit der Einwellenlängen-Methode möglich war. A new contouring technique using two-wavelength electronic speckle pattern interferometry (TWESPI) employing dual-beam illuminations is proposed. This technique extents the measurement range of single-wavelength electronic speckle pattern interferometry and allows the measurment of profiles of the steeper surfaces than has preciously been possible with a single-wavelength.