Design consideration of a dual-beam ESPI optical system for contouring

Abstract

A discussion of the essential technical advantages, limitations, various kinds of errors and required characteristics of dual-beam illumination ESPI optical system by tilting illuminations for contouring is attached. Attractive features are the simplification of the optical system, the stationary reference contour planes and the possibility of adjusting various parameters for contouring. Eine Diskussion der wichtigen technischen Vorteile, Begrenzungen, verschiedene Fehlerquellen und notwendige Charakteristiken des optischen Zweistrahl-ESPl-Systems bei schräger Beleuchtung wird vorgestellt. Attraktive Eigenschaften sind die Vereinfachung der optischen Systeme, die stationären Kontur-Referenzebenen, und die Möglichkeit der Justierung verschiedener Parameter an die Konturierung.