Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse

Burghartz, Joachim N. (Prof. Dr.-Ing.)Jurisch, Michael2017-08-152017-08-152017492455198http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-92157http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9215http://dx.doi.org/10.18419/opus-9198deinfo:eu-repo/semantics/openAccess530600620Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler FertigungsprozessedoctoralThesis