Weis, Jürgen (Prof. Dr.)Rommel, Marcus2018-07-122018-07-122018507621204http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-99402http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9940http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923Dissertation zum Thema Hochauflösende Elektronen Strahl Lithographie mit Fokus auf den Einfluss schneller Sekundärelektronen auf den Proximity Effekt, sowie die Entwicklung von Prozessen zur Herstellung großer Flächen dicht gepackter Strukturen mit sub-10 nm Auflösung.eninfo:eu-repo/semantics/openAccess530High resolution electron beam lithography : an improved understanding of a versatile lithography techniquedoctoralThesis