14 Externe wissenschaftliche Einrichtungen
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Item Open Access Die SOI Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für nanostrukturierte Silizium Membranmasken(2003) Butschke, Jörg; Höfflinger, Bernd (Prof. Dr. rer. nat.)Vorgestellt wird ein Prozess zur Herstellung von strukturierten Silizium Membranmasken mit hoher Qualität auf Basis von kommerziell verfügbarem SOI Material. Im Gegensatz zum bisherigen mikrosystemtechnischen Konzept, wonach die Membranätzung vor der Strukturierung erfolgt, erlaubt es der neue, mikroelektronische Prozessansatz, dass die überwiegende Zahl an Arbeitsschritten unter Verwendung von in der Halbleiterindustrie üblichen Anlagen durchführt werden kann. Eine Sonderausrüstung ist einzig für die Nassprozesse der Membranätzung erforderlich. Da die Maske nach der Ätzung nicht wieder in die Fertigungslinie zurückkehrt, sind keine speziellen Maßnahmen zur Vermeidung von Kontaminationen erforderlich. Neben Möglichkeiten zur Optimierung des Herstellungsprozesses wird insbesondere auf die Thematik der Kontrolle und Manipulation der Eigenspannung der Membran eingegangen. Ergänzt wird dies durch die Untersuchung unterschiedlicher SOI Materialien hinsichtlich deren mechanischen Eigenschaften. Besonderes Augenmerk wird auf die Lagegenauigkeit, die eng mit dem Themengebiet der mechanischen Spannungen in Verbindung steht, gerichtet. Unter Berücksichtigung der für Masken typischen und durch eine Belichtungsanlage korrigierbaren Größen, konnten Überdeckungsgenauigkeiten zwischen zwei Masken in der Größenordnung von 12nm (3Sigma) in einem Maskenfeld von 50mm × 50mm erreicht werden. Abschließend wird ein Überblick über die Möglichkeiten des Prozesses, der derzeit erreichbaren Minimalstrukturen und der bisher damit hergestellten Produkte gegeben.