Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse

Thumbnail Image

Files

Dissertation_MJurisch.pdf (35.71 MB)

Date

2017

Authors

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Abstract

Description

Keywords

Citation

URI

http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-92157
 http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9215
 http://dx.doi.org/10.18419/opus-9198

Collections

07 Fakultät Konstruktions-, Produktions- und Fahrzeugtechnik

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By