Please use this identifier to cite or link to this item: http://dx.doi.org/10.18419/opus-4366
Authors: Diao, Hongyan
Zou, Yunlu
Tiziani, Hans J.
Title: Design consideration of a dual-beam ESPI optical system for contouring
Issue Date: 1993
metadata.ubs.publikation.typ: Zeitschriftenartikel
metadata.ubs.publikation.source: Optik 93 (1993), S. 45-51
URI: http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-61813
http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/4383
http://dx.doi.org/10.18419/opus-4366
Abstract: A discussion of the essential technical advantages, limitations, various kinds of errors and required characteristics of dual-beam illumination ESPI optical system by tilting illuminations for contouring is attached. Attractive features are the simplification of the optical system, the stationary reference contour planes and the possibility of adjusting various parameters for contouring.
Eine Diskussion der wichtigen technischen Vorteile, Begrenzungen, verschiedene Fehlerquellen und notwendige Charakteristiken des optischen Zweistrahl-ESPl-Systems bei schräger Beleuchtung wird vorgestellt. Attraktive Eigenschaften sind die Vereinfachung der optischen Systeme, die stationären Kontur-Referenzebenen, und die Möglichkeit der Justierung verschiedener Parameter an die Konturierung.
Appears in Collections:07 Fakultät Konstruktions-, Produktions- und Fahrzeugtechnik

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