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Autor(en): Goer, Anne M. de
Locatelli, Marcel
Lassmann, Kurt
Titel: A study of the ground state of acceptors in silicon from thermal transport experiments
Erscheinungsdatum: 1981
Dokumentart: Zeitschriftenartikel
Erschienen in: Journal de physique 42 (1981), C6, S. 235-237
URI: http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-46923
http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/4905
http://dx.doi.org/10.18419/opus-4888
Zusammenfassung: Thermal conductivity measurements of silicon crystals doped with Bor In have shown the presence of several phonon scattering processes. The resonant effect observed below 1 K is ascribed to the existence of a distribution of splittings N(δ) of the Γ8 ground state of the acceptor, which could be related to the presence of oxygen and carbon impurities. In two cases, the maximum of N(δ) occurs for δ max near 6 GHz, in agreement with previous ultrasonic studies.
Enthalten in den Sammlungen:08 Fakultät Mathematik und Physik

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