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dc.contributor.authorAnochin, B. G.de
dc.contributor.authorLichtman, A. E.de
dc.contributor.authorNemirovskij, L. N.de
dc.contributor.authorSejdman, L. A.de
dc.contributor.otherLudwig, Sören (Übersetzerin)de
dc.date.accessioned2012-11-21de
dc.date.accessioned2016-03-31T10:25:58Z-
dc.date.available2012-11-21de
dc.date.available2016-03-31T10:25:58Z-
dc.date.issued1999de
dc.identifier.other376609672de
dc.identifier.urihttp://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-78921de
dc.identifier.urihttp://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/6413-
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.18419/opus-6396-
dc.description.abstractDer gegenwärtige Stand und der weitere Entwicklungsweg der Germaniumepitaxie aus einem Molekularstrahl im Vakuum werden diskutiert. Es wurde die Abhängigkeit der Strukturqualität homoepitaktischer Schichten von der Temperatur, der Wachstumsgeschwindigkeit, dem Restgasdruck und dem Verfahren der Substratvorbereitung untersucht. Die Herstellungsbedingungen für Schichten mit geringer Konzentration an unkontrollierbaren Beimischungen werden betrachtet. Es wird gezeigt, daß die reproduzierbare Herstellung von Epitaxieschichten ohne Stapelfehler, mit einer Konzentration der Fehlanordnungen von 10(hoch 4) cm(hoch -2) und einem gegebenen spezifischen Widerstand im Bereich von 0,1-1,0 Wxcm möglich ist.de
dc.language.isodede
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessde
dc.subject.classificationGermanium , Selektive Epitaxiede
dc.subject.ddc621.3de
dc.titleGermaniumepitaxie aus einem Molekularstrahl im Vakuumde
dc.typereportde
ubs.fakultaetZentrale Universitätseinrichtungende
ubs.institutIZUS Universitäres Bibliothekssystem (UB)de
ubs.opusid7892de
ubs.publikation.sourceOriginaltext erschienen in: Elektronnaja technika, Serija 2 54 (1970) Nr. 4, S. 38-46de
ubs.publikation.typVerschiedenartige Textede
Enthalten in den Sammlungen:13 Zentrale Universitätseinrichtungen

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