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dc.contributor.authorBerroth, Manfredde
dc.contributor.authorBosch, Rolandde
dc.contributor.authorHurm, Volkerde
dc.date.accessioned2014-05-12de
dc.date.accessioned2016-03-31T11:45:30Z-
dc.date.available2014-05-12de
dc.date.available2016-03-31T11:45:30Z-
dc.date.issued1989de
dc.identifier.other411955128de
dc.identifier.urihttp://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-92609de
dc.identifier.urihttp://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/8222-
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.18419/opus-8205-
dc.description.abstractA procedure is described to determine the carrier density profile in the channel of a FET by evaluating S-parameters measured over a broad frequency range. Applying this method to GaAs/AlGaAs heterostructures, a frequency dispersion of the gate capacitance has been found, which is attributed to a parasitic conducting channel.en
dc.language.isoende
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessde
dc.subject.classificationGalliumarsenid , Aluminiumarsenid , Mischkristall , Feldeffekttransistor , Integrierte Schaltungde
dc.subject.ddc621.3de
dc.titleFrequency dependent CV measurements of GaAs/AlGaAs heterostructuresen
dc.typeconferenceObjectde
ubs.fakultaetFakultätsübergreifend / Sonstige Einrichtungde
ubs.institutSonstige Einrichtungde
ubs.opusid9260de
ubs.publikation.sourceHeuberger, Anton (Hrsg.): ESSDERC '89 : 19th European Solid State Device Research Conference, Berlin. Berlin : Springer, 1989. - ISBN 3-540-51000-1, S. 619-622de
ubs.publikation.typKonferenzbeitragde
Enthalten in den Sammlungen:15 Fakultätsübergreifend / Sonstige Einrichtung

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