Bitte benutzen Sie diese Kennung, um auf die Ressource zu verweisen: http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923
Autor(en): Rommel, Marcus
Titel: High resolution electron beam lithography : an improved understanding of a versatile lithography technique
Erscheinungsdatum: 2018
Dokumentart: Dissertation
Seiten: x, 156, 1
URI: http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9940
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-99402
http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923
Zusammenfassung: Dissertation zum Thema Hochauflösende Elektronen Strahl Lithographie mit Fokus auf den Einfluss schneller Sekundärelektronen auf den Proximity Effekt, sowie die Entwicklung von Prozessen zur Herstellung großer Flächen dicht gepackter Strukturen mit sub-10 nm Auflösung.
Enthalten in den Sammlungen:08 Fakultät Mathematik und Physik

Dateien zu dieser Ressource:
Datei Beschreibung GrößeFormat 
Diss.pdf72,8 MBAdobe PDFÖffnen/Anzeigen


Alle Ressourcen in diesem Repositorium sind urheberrechtlich geschützt.