Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse

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DC Element	Wert	Sprache
dc.contributor.advisor	Burghartz, Joachim N. (Prof. Dr.-Ing.)	-
dc.contributor.author	Jurisch, Michael	-
dc.date.accessioned	2017-08-15T10:28:27Z	-
dc.date.available	2017-08-15T10:28:27Z	-
dc.date.issued	2017	de
dc.identifier.other	492455198	-
dc.identifier.uri	http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-92157	de
dc.identifier.uri	http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9215	-
dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.18419/opus-9198	-
dc.language.iso	de	de
dc.rights	info:eu-repo/semantics/openAccess	de
dc.subject.ddc	530	de
dc.subject.ddc	600	de
dc.subject.ddc	620	de
dc.title	Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse	de
dc.type	doctoralThesis	de
ubs.dateAccepted	2017-05-29	-
ubs.fakultaet	Externe wissenschaftliche Einrichtungen	de
ubs.institut	Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS)	de
ubs.publikation.seiten	186	de
ubs.publikation.typ	Dissertation	de
ubs.thesis.grantor	Konstruktions-, Produktions- und Fahrzeugtechnik	de
Enthalten in den Sammlungen:	07 Fakultät Konstruktions-, Produktions- und Fahrzeugtechnik

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