Bitte benutzen Sie diese Kennung, um auf die Ressource zu verweisen: http://dx.doi.org/10.18419/opus-9198
Autor(en): Jurisch, Michael
Titel: Ablenk-Systeme für die Multi-Elektronenstrahllithografie auf Basis CMOS-kompatibler Fertigungsprozesse
Erscheinungsdatum: 2017
Dokumentart: Dissertation
Seiten: 186
URI: http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9215
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-92157
http://dx.doi.org/10.18419/opus-9198
Enthalten in den Sammlungen:07 Fakultät Konstruktions-, Produktions- und Fahrzeugtechnik

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