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http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923
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DC Element | Wert | Sprache |
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dc.contributor.advisor | Weis, Jürgen (Prof. Dr.) | - |
dc.contributor.author | Rommel, Marcus | - |
dc.date.accessioned | 2018-07-12T12:48:20Z | - |
dc.date.available | 2018-07-12T12:48:20Z | - |
dc.date.issued | 2018 | de |
dc.identifier.other | 507621204 | - |
dc.identifier.uri | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-99402 | de |
dc.identifier.uri | http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9940 | - |
dc.identifier.uri | http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923 | - |
dc.description.abstract | Dissertation zum Thema Hochauflösende Elektronen Strahl Lithographie mit Fokus auf den Einfluss schneller Sekundärelektronen auf den Proximity Effekt, sowie die Entwicklung von Prozessen zur Herstellung großer Flächen dicht gepackter Strukturen mit sub-10 nm Auflösung. | de |
dc.language.iso | en | de |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | de |
dc.subject.ddc | 530 | de |
dc.title | High resolution electron beam lithography : an improved understanding of a versatile lithography technique | en |
dc.type | doctoralThesis | de |
ubs.dateAccepted | 2018-03-22 | - |
ubs.fakultaet | Externe wissenschaftliche Einrichtungen | de |
ubs.institut | Max-Planck-Institut für Festkörperforschung | de |
ubs.publikation.seiten | x, 156, 1 | de |
ubs.publikation.typ | Dissertation | de |
ubs.thesis.grantor | Mathematik und Physik | de |
Enthalten in den Sammlungen: | 08 Fakultät Mathematik und Physik |
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