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http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923
Autor(en): | Rommel, Marcus |
Titel: | High resolution electron beam lithography : an improved understanding of a versatile lithography technique |
Erscheinungsdatum: | 2018 |
Dokumentart: | Dissertation |
Seiten: | x, 156, 1 |
URI: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-99402 http://elib.uni-stuttgart.de/handle/11682/9940 http://dx.doi.org/10.18419/opus-9923 |
Zusammenfassung: | Dissertation zum Thema Hochauflösende Elektronen Strahl Lithographie mit Fokus auf den Einfluss schneller Sekundärelektronen auf den Proximity Effekt, sowie die Entwicklung von Prozessen zur Herstellung großer Flächen dicht gepackter Strukturen mit sub-10 nm Auflösung. |
Enthalten in den Sammlungen: | 08 Fakultät Mathematik und Physik |
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